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  • 3M™ Betapure™ CMP系列 液體過濾膠囊 CMP530C04LC06, 4", 0.8um, 3/8" Flaretek with 1/4" Vent/Drain, EPR
  • 3M™ Betapure™ CMP系列 液體過濾膠囊 CMP530C04LC06, 4", 0.8um, 3/8" Flaretek with 1/4" Vent/Drain, EPR

    3M ID 7000001860
    • 漸進式多孔設計,具優異的硬性/軟性膠體粒子去除效果,能有效降低缺陷率並提高良率。高容雜量可減少停機 (downtime) 且提升整體設備效率 (OEE)。
    • 低壓損,降低研磨液產生流體剪切應力的可能性。
    • 100%聚丙烯結構,為未使用黏著劑和界面活性劑的安全性濾材。具低溶出性,對高/低pH值的研磨液皆具備極佳的耐化性。
    • 拋棄式膠囊設計便於快速安裝、減少停機和誤觸危險化學物的機率。
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    產品介紹
    • 漸進式多孔設計,具優異的硬性/軟性膠體粒子去除效果,能有效降低缺陷率並提高良率。高容雜量可減少停機 (downtime) 且提升整體設備效率 (OEE)。
    • 低壓損,降低研磨液產生流體剪切應力的可能性。
    • 100%聚丙烯結構,為未使用黏著劑和界面活性劑的安全性濾材。具低溶出性,對高/低pH值的研磨液皆具備極佳的耐化性。
    • 拋棄式膠囊設計便於快速安裝、減少停機和誤觸危險化學物的機率。
    • 高品質製造流程,使用ISO認證品質管制系統。

    3M™ Betapure™ CMP系列 液體過濾膠囊為具備高處理量的深層式過濾濾芯,適合過濾化學機械平坦化 (CMP) 製程中的氧化物與金屬研磨液。Betapure™ CMP系列濾芯以聚丙烯製成,具多層漸進式多孔過濾設計以優化粒子分離效果,達到低壓損、延長濾芯使用壽命的優點。

    3M™ Betapure™ CMP系列濾芯能有效降低大粒徑微粒 (LPC, large partical counts)、減少其影響良率的可能性,同時維持研磨液拋光的良好特性。除半導體,Betapure™ CMP系列亦適用於資料儲存、資料傳輸、LED等相關過濾應用。

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