3M™ CMP Pad Cleaning Brush聯繫3M專家
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3M™ CMP 研磨刷
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詳細訊息
產品亮點
- 耐磨的剛性毛刷可協助去除多孔的微複製研磨墊上的殘留物。;耐磨的剛性毛刷可協助去除多孔的微複製研磨墊上的殘留物。
- 易於連接到拋光工具末端;易於連接到拋光工具末端
- 獨特的聚合物基材增強了耐腐蝕性
- 超長使用壽命
- 3M™ CMP 研磨刷可輕鬆連接到拋光工具末端執行器
高度工程化定制化的研磨刷，專為修整CMP研磨墊設計。
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CMP研磨盤的好幫手
堅固耐用的刷毛獨立固定並均勻分佈在3M研磨刷表面，使3M研磨刷適合去除柔軟的顯微複製、多孔的CMP研磨墊上的碎片。刷毛由一種獨特的聚合物製成，相比於金屬更耐腐蝕。聚碳酸酯載體更方便安裝，便於連接到各種拋光工具。
規格
| CMP製程 | W (Buff), Cu (Barrier), Final Buff |
| 品牌 | 3M™ |
| 底座型態 | 砂盤 |
| 底座材料 | 聚碳酸酯 PC |
| 底座直徑（公制） | 107.95 mm |
| 應用領域 | CMP, 晶圓製造, 清潔墊, 進階節點（記憶體和邏輯） |
| 產品系列 | PB32A, PB33A, PB52A |
| 產品類型 | 刷子 |
| 研磨材料 | Nylon Fibers |
| 鑽石工作面 | 整面型 |
相關資源
產品安全資料表
(PDF)
