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3M™ Trizact™ 研磨墊 HT-315-E
- 3M ID B5005408002
詳細訊息
產品亮點
- 對碳化矽(SiC)和陶瓷等超硬基材進行有效的精細研磨
- 與銅盤工藝相比，和3M™Trizact™複合研磨液一起使用，改善了平整度(TTV)，去除率和良好的表面光潔度，是精細研磨/pre-CMP步驟的良好選擇
- 替代銅盤工藝，不需要重新對銅盤進行溝槽處理，拋光廢料中不含銅
- 與單面銅盤工藝相比，雙面工藝可以提高生產效率
- 使用可剝離和貼附的壓敏膠(PSA)，易於使用和安裝
- 良好的表面光潔度，是精細研磨/pre-CMP步驟的良好選擇
- 高去除率
- 碳化矽、氧化鋯(ZrO2)、玻璃、氧化矽及矽材料的精細研磨
- 相容單面和雙面研磨設備
3M™Trizact™複合研磨墊HT-315-E是一種顯微複製複合研磨墊，用於拋光超硬基材，如碳化矽和陶瓷。
對於精細研磨/pre-CMP步驟，Trizact研磨墊HT-315-E是一個不錯的選擇，當與3M™Trizact™複合研磨液結合使用時，可以產生良好的表面光潔度和高去除率。該研磨墊是普通銅盤和金剛石漿料工藝的替代方案。它可以貼附在典型的單面或雙面研磨盤上。
規格
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目前查看的產品  3M™ Trizact™ 研磨墊 HT-315-E | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 3M | ||
| 應用領域 | 拋光, 表面線紋處理, 劃痕修復, 研磨, 預-CMP | ||
| 產品用途 | 超硬基材, 半導體晶圓 | ||
| 研磨材料 | 鑽石 | ||
| 粗度(Grade) | 精細 | ||
| 被著體 | 藍寶石, 矽鋁, 碳化矽, 氮化矽, 砷化鎵, 氮化鎵, 鉭酸鋰 |
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