3M™ Trizact™ 研磨墊 HT-315-E

  • 3M ID B5005408002

對碳化矽(SiC)和陶瓷等超硬基材進行有效的精細研磨

與銅盤工藝相比,和3M™Trizact™複合研磨液一起使用,改善了平整度(TTV),去除率和良好的表面光潔度,是精細研磨/pre-CMP步驟的良好選擇

替代銅盤工藝,不需要重新對銅盤進行溝槽處理,拋光廢料中不含銅

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產品亮點
  • 對碳化矽(SiC)和陶瓷等超硬基材進行有效的精細研磨
  • 與銅盤工藝相比,和3M™Trizact™複合研磨液一起使用,改善了平整度(TTV),去除率和良好的表面光潔度,是精細研磨/pre-CMP步驟的良好選擇
  • 替代銅盤工藝,不需要重新對銅盤進行溝槽處理,拋光廢料中不含銅
  • 與單面銅盤工藝相比,雙面工藝可以提高生產效率
  • 使用可剝離和貼附的壓敏膠(PSA),易於使用和安裝
  • 良好的表面光潔度,是精細研磨/pre-CMP步驟的良好選擇
  • 高去除率
  • 碳化矽、氧化鋯(ZrO2)、玻璃、氧化矽及矽材料的精細研磨
  • 相容單面和雙面研磨設備

3M™Trizact™複合研磨墊HT-315-E是一種顯微複製複合研磨墊,用於拋光超硬基材,如碳化矽和陶瓷。

對於精細研磨/pre-CMP步驟,Trizact研磨墊HT-315-E是一個不錯的選擇,當與3M™Trizact™複合研磨液結合使用時,可以產生良好的表面光潔度和高去除率。該研磨墊是普通銅盤和金剛石漿料工藝的替代方案。它可以貼附在典型的單面或雙面研磨盤上。

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