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Photo of Semiconductor circuitry in the  semiconductor manufacturing process.
最大程度改善半導體生產流程

用於生產半導體的3M產品

諮詢3M應用工程師

半導體過濾

減少污染物在半導體生產中至關重要。 如果無法在生產過程中去除顆粒或金屬,可能導致產品出現缺陷,甚至進一步導致產品召回。因此,生產過程中的所有步驟都需要性能可靠的3M過濾產品。


Infographic illustration of the Integrated Circuit Fabrication Process. Starting with incoming water to the UltraPure Water system.

半導體應用

100多年來,3M與客戶合作,開發了創新型過濾和純化產品,可滿足半導體生產不斷變化的需求。

超純水

超純水(UPW)主要用於去除晶圓表面可能造成缺陷的污染物,並在晶圓(在各種製程中)接觸化學品後進行沖洗或清潔。

3M的過濾和脫氣膜產品能夠根據需要減少顆粒,並控制溶解氣體 (O₂ 和 CO₂),滿足半導體和電子行業的嚴格要求。


特色產品

  • Image of 3M™ High Flow Series Filter Cartridge product on white background
    3M™ 高流量系列濾芯
  • Image of 3M™ LifeASSURE™ EPF Series Filter Cartridge product on white background
    3M™ LifeASSURE™ EPF系列濾芯
  • 3M™ LifeASSURE™ EMZ系列濾芯
  • Image of 3M™ Liquid-Cel™ EXF Series Membrane Contactor product on white background
    3M™ Liqui-Cel™ EXF系列膜接觸器

化學機械拋光

化學機械拋光(CMP)製程結合了超細磨料的化學(酸性或鹼性)漿液與拋光產生的機械力,可對不平整的區域進行平整。對於多級金屬化製程,每當添加新的金屬層,被覆蓋塗層的缺陷就會放大。後續的光刻製程可通過CMP提高精度。

3M可提供過濾解決方案,以控制CMP製程中漿液的顆粒尺寸,從而確保晶片製造商繼續縮小新一代設備所需電路的尺寸。


特色產品

  • Image of 3M™ Betapure™ AUL Series Filter Capsule product on white background
    3M™ Betapure™ AUL系列濾芯與膠囊
  • Image of 3M™ Betapure™ SKYL Series Filter Cartridge product on white background
    3M™ Betapure™ SKYL系列濾芯
  • Image of 3M™ Betapure™ CTJ Series Filter Cartridges product on white background
    3M™ Betapure™ CTJ系列濾芯

平版印刷/高純度化學品

微影製程主要在晶圓上繪製電路。可去除高純度化學品中的多餘有機污染物、顆粒和離子金屬物,從而減小設備尺寸。

3M的過濾和純化產品可減少污染物,從而滿足高性能半導體生產的需要。


特色產品

  • Image of 3M™ NanoSHIELD™ Hollow Fiber Series Filter Cartridge product on white background
    3M™ NanoSHIELD™ 中空絲膜系列濾芯
  • Image of 3M™ Metal Ion Purifier product on white background
    3M™金屬離子純化器
  • Image of 3M™ LifeASSURE™ PSN Series Filter Cartridge product on white background
    3M™ LifeASSURE™ PSN系列濾芯

電解質電鍍

電鍍解決方案需要嚴格的顆粒和溶解氣體控制,以防止沉積金屬層出現缺陷和雜質。

3M可提供顆粒和溶解氣體解決方案,以滿足電鍍製程的需要。


特色產品

濕式清潔化學品

在濕式加工過程中,半導體設備需要反覆浸泡、浸漬或噴灑溶液,即使存在清潔步驟,晶圓表面的污染也會導致設備故障。隨著設備功能不斷縮減,確保生產製程使用的酸、鹼和溶劑純度仍很重要。

對於大部分酸、鹼、酒精和蝕刻劑,3M都能根據具體化學應用提供合適的過濾系統。


特色產品

  • Image of 3M™ NanoSHIELD™ Hollow Fiber Series Filter Cartridge product on white background
    3M™ NanoSHIELD™ 中空絲膜系列濾芯
  • Image of 3M™ LifeASSURE™ EMC Series Filter Cartridge product on white background
    3M™ LifeASSURE™ EMC系列濾芯
  • Image of 3M™ LifeASSURE™ MFE Series Filter Cartridge product on white background
    3M™ LifeASSURE™ MFE系列濾芯

廢水

半導體生產需要大量化學品,必然會產生大量廢水。不同的製造流程會產生各種廢水污染物。

3M可提供過濾解決方案,通過過濾廢水來保護環境,同時滿足日益嚴格的排放要求。


特色產品

  • Image of 3M™ High Flow Series Filter Cartridge product on white background
    3M™ 高流量系列濾芯
  • Image of 3M™ MicroKlean™ RT Series Filter Cartridge product on white background
    3M™ MicroKlean™ RT系列濾芯
  • Image of 3M™ Betafine™ XL Series Filter Cartridge product on white background
    3M™ Betafine™ XL系列濾芯
  • Image of 3M™ Liquid-Cel™ EXF Series Membrane Contactor product on white background
    3M™ Liqui-Cel™ EXF系列膜接觸器

溶解氣體控制

3M™ Liqui-Cel™膜接觸器設計緊湊,可實現高效的溶解氣體控制。這些氣體輸送裝置可向相容的液體流中添加氣體,或去除溶解的氣體和氣泡,並採用中空纖維膜技術,有助於世界各地的相關設施提高運行效率、性能,同時確保產品品質。


特色產品


關鍵資源

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