矽晶圓生產

研磨和拋光結合了超細磨料的化學 (酸性或鹼性) 漿液與拋光產生的機械力，可對不平整的區域進行平整。通過嚴格控制漿液顆粒的尺寸，可實現理想的表面處理效果。

3M提供過濾解決方案，可控制拋光製程中使用漿液的顆粒尺寸，使晶圓製造商滿足相關行業標準。

在濕式加工中，使用溶液對晶圓進行浸染、浸漬或噴灑。隨著設備功能不斷縮減，確保製造流程使用的酸、鹼和溶劑純度仍很重要。

對於大部分酸、鹼、酒精和蝕刻劑，3M都能根據具體化學應用提供合適的過濾系統。

製程冷卻水通過迴圈進入水冷設備。溫度迴圈、夾雜空氣、污染物和水質不良都會導致腐蝕、結垢和其他問題，可能抑制正常冷卻和/或降低水冷設備的性能。通過適當的水處理製程，可確保水冷設備在使用中發揮最佳性能。

3M可提供過濾和氣體管理解決方案，以控制製程冷卻水迴路中的污染物和氣體雜質，從而提升運行效率和穩定性。

晶圓生產需要大量的水和化學品，必然會產生大量廢水。不同的製造流程會產生各種廢水污染物。

3M可提供過濾解決方案，通過過濾廢水來保護環境，同時滿足日益嚴格的排放要求。

3M™ Liqui-Cel™膜接觸器設計緊湊，可實現高效的溶解氣體控制。這些氣體輸送裝置可向相容的液體流中添加氣體，或去除溶解的氣體和氣泡，並採用中空纖維膜技術，有助於世界各地的相關設施提高運行效率、性能，同時確保產品品質。